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芯?上的?壓如何產(chǎn)生的?
1. 高壓生成的方法
1.1 電荷泵(Charge Pump):電容的“電壓疊加”
電荷泵是最經(jīng)典的片上高壓生成方案,其核心原理是通過電容和開關(guān)的周期性切換,逐級(jí)“泵送”電荷,實(shí)現(xiàn)電壓倍增。
-
Dickson電荷泵:
由二極管(或MOSFET替代)和電容級(jí)聯(lián)構(gòu)成。通過時(shí)鐘信號(hào)控制開關(guān),電容交替充電和串聯(lián)放電。例如,一個(gè)兩倍壓電荷泵的輸入電壓為,在第一階段電容充電至,第二階段該電容與電源串聯(lián),輸出達(dá)到(為開關(guān)壓降)。通過多級(jí)級(jí)聯(lián),可生成更高電壓。
特點(diǎn):-
無需電感,易于集成; -
輸出電流較小,效率隨級(jí)數(shù)增加而下降; -
典型應(yīng)用:Flash存儲(chǔ)器編程(需10-20V)、OLED驅(qū)動(dòng)(~15V)。
-
1.2 開關(guān)電容電壓轉(zhuǎn)換器:動(dòng)態(tài)重構(gòu)電容網(wǎng)絡(luò)
開關(guān)電容技術(shù)通過改變電容的連接方式(并聯(lián)充電、串聯(lián)放電)提升電壓。例如,Cockcroft-Walton倍壓電路利用多級(jí)電容和二極管的組合,將交流信號(hào)整流為高壓直流。
-
設(shè)計(jì)優(yōu)化:
采用MOSFET替代二極管可減少壓降,提升效率。通過調(diào)整開關(guān)頻率和電容值,可靈活調(diào)節(jié)輸出電壓。
應(yīng)用場(chǎng)景:
低功耗傳感器接口、能量采集電路。
1.3 電感式升壓轉(zhuǎn)換器(Boost Converter):高效能量轉(zhuǎn)換
傳統(tǒng)的電感式Boost電路通過周期性開關(guān)電感和儲(chǔ)能電容,將輸入電壓提升至更高等級(jí)。其核心公式為:
-
片上集成挑戰(zhàn):
傳統(tǒng)電感體積大,難以集成,但先進(jìn)工藝(如TSMC 16nm以下)支持微型化平面電感的制造。
-
優(yōu)勢(shì):
高效率(>90%)、支持大電流輸出,適用于電源管理芯片(PMIC)。
2. 高壓生成的關(guān)鍵設(shè)計(jì)挑戰(zhàn)*
2.1 效率與面積的權(quán)衡
-
電荷泵的級(jí)數(shù)限制:
級(jí)數(shù)越多,輸出電壓越高,但開關(guān)損耗和電容面積顯著增加。例如,4級(jí)電荷泵的效率可能低于50%。 -
電感式Boost的微型化:
片上電感的Q值(品質(zhì)因數(shù))較低,需優(yōu)化布局以降低寄生電阻。
2.2 噪聲與紋波抑制
開關(guān)操作(尤其是電荷泵和Boost電路)會(huì)引入高頻噪聲和電壓紋波,可能干擾敏感模擬電路。解決方法包括:
-
增加濾波電容; -
采用多相位交錯(cuò)控制技術(shù); -
優(yōu)化開關(guān)時(shí)序以減少電流尖峰。
2.3 高壓器件的工藝兼容性
-
厚柵氧晶體管:
柵極氧化層加厚以承受高壓,但犧牲了開關(guān)速度。 -
LDMOS(橫向擴(kuò)散MOS):
通過特殊摻雜工藝實(shí)現(xiàn)高擊穿電壓,廣泛用于功率集成電路。
2.4 動(dòng)態(tài)電壓調(diào)節(jié)
在負(fù)載變化時(shí)(如Flash存儲(chǔ)器擦除階段電流突增),需通過閉環(huán)反饋(如電壓模/PWM控制)快速調(diào)整輸出電壓,避免過沖或跌落。
3. 典型應(yīng)用場(chǎng)景
3.1 非易失性存儲(chǔ)器(NVM)
Flash和EEPROM需要10-20V高壓進(jìn)行編程和擦除,電荷泵因其緊湊性成為首選方案。例如,智能手機(jī)的eMMC芯片內(nèi)置多級(jí)電荷泵以支持高速寫入。
3.2 顯示驅(qū)動(dòng)
OLED顯示屏的像素驅(qū)動(dòng)需15-20V偏置電壓,電荷泵或Boost電路為每個(gè)像素提供精準(zhǔn)電壓控制。
3.3 MEMS傳感器
微機(jī)電系統(tǒng)(如加速度計(jì)、陀螺儀)需要高壓驅(qū)動(dòng)靜電執(zhí)行器,開關(guān)電容轉(zhuǎn)換器因低功耗特性被廣泛采用。
3.4 射頻(RF)前端
部分射頻開關(guān)和功率放大器需高壓供電,微型變壓器耦合技術(shù)可滿足高頻隔離需求。
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