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碳化硅VS氮化鎵的區(qū)別?

來 源:  時 間:2025-05-28

隨著新能源、電動汽車、5G通信、數(shù)據(jù)中心等高科技產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,傳統(tǒng)硅材料正逐漸遇到瓶頸。第三代半導體材料——碳化硅和氮化鎵正成為焦點。它們以更高的電壓承受能力、更低的能耗和更強的散熱性能,被認為是這一代功率器件和射頻器件的核心材料。

先說說什么是第三代半導體

半導體材料按照能帶寬度大致分為三代:第一代:硅、鍺,主導傳統(tǒng)IC、微處理器、電路等;第二代:砷化鎵、磷化銦,主要用于射頻和光通信;第三代:碳化硅與氮化鎵,屬于寬禁帶半導體。

相比硅,SiC 和 GaN 具有更大的帶隙、更高的擊穿電壓、更快的開關速度、更小的導通電阻,尤其適用于高頻、高壓、高溫環(huán)境。是功率電子和射頻通信的理想材料。

碳化硅VS氮化鎵

1.性能

碳化硅擊穿電場強度2.8 MV/cm,適合1200V以上高壓場景,且熱導率高,耐高溫性能突出,但襯底生長需2700℃高溫工藝,成本較高。氮化鎵擊穿電場強度3.3 MV/cm,開關頻率可達MHz級,功耗損失更低,Baliga性能指數(shù)是碳化硅的近兩倍,但熱導率較低,需優(yōu)化散熱設計。

2.成本

碳化硅襯底成本高,但采用與硅基兼容的TO-247封裝,可快速替代傳統(tǒng)IGBT;而氮化鎵通過硅基襯底降低成本,8英寸晶圓量產(chǎn)使單顆器件成本降低30%。碳化硅聚焦8英寸晶圓擴產(chǎn),氮化鎵則推進垂直結構和單片集成技術,以突破1200V耐壓瓶頸。

3.應用場景

碳化硅主要用于電動汽車主驅逆變器、工業(yè)電源、光伏逆變器、電網(wǎng)輸配電系統(tǒng)等。氮化鎵主要用于消費電子、5G射頻功放、雷達系統(tǒng)、高頻通信等領域。

4.市場格局

2023年全球SiC功率器件市場規(guī)模約為20億美元,預計到2028年將達65億美元,復合年增長率超過25%。2023年GaN功率器件市場約為3.7億美元,預計2028年將增長至20億美元左右,增長勢頭迅猛,尤其在消費電子和通信市場。

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